Questão número 531646

Aponte dentre as afirmativas abaixo, aquela que NÃO é correta.

• A. Do ponto de vista do wafer, a sequência de passos no processo de fotolitografia é: aplicação do filme fotossensível, alinhamento da máscara com o wafer, exposição do fotoresiste, revelação do padrão.
• B. O efeito da difração da luz usada para exposição com o padrão da máscara limita a resolução das estruturas.
• C. No resiste positivo as partes não expostas são dissolvidas na revelação.
• D. O ambiente da sala de fotolitografia é iluminado em um comprimento de onda que não interfere com o material fotossensível.
• E. O fotoresiste é exposto a luz ultravioleta para ser sensibilizado (usualmente as linhas g, h ou i de lâmpadas de mercúrio).