Questão número 531626

A crescente integração de componentes nos circuitos integrados exige que as estruturas sejam cada vez mais reduzidas. A respeito da tecnologia para litografia usando fótons de 13,5 nm pode-se afirmar que

• A. as máscaras fotolitográficas para essa tecnologia tem de ser necessariamente de quartzo.
• B. o processo tem de ocorrer em atmosfera inerte.
• C. a óptica de projeção usada nesse processo é baseada em materiais de gap largo, como o fluoreto de lítio.
• D. a fonte de luz adequada é lâmpada de Xe de alta pressão.
• E. a resolução é limitada mais pela geração de fotoelétrons e elétrons secundários no resiste, que pelo limite de difração.